Article Dans Une Revue
Electrochemical Society Transactions
Année : 2019
UMI3463 LN2 : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02453650
Soumis le : vendredi 24 janvier 2020-03:14:00
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:48:02
Citer
Thierno Mamoudou Diallo, Roxana Arvinte, Mohammad Reza Aziziyan, Richard Ares, Simon Fafard, et al.. Thermally Induced Formation of Etch Pits on Ge Surfaces under Conditions of CVD Graphene Growth. Electrochemical Society Transactions, 2019, 93 (1), pp.91-92. ⟨10.1149/09301.0091ecst⟩. ⟨hal-02453650⟩
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