Thermally Induced Formation of Etch Pits on Ge Surfaces under Conditions of CVD Graphene Growth - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Electrochemical Society Transactions Année : 2019
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Dates et versions

hal-02453650 , version 1 (24-01-2020)

Identifiants

Citer

Thierno Mamoudou Diallo, Roxana Arvinte, Mohammad Reza Aziziyan, Richard Ares, Simon Fafard, et al.. Thermally Induced Formation of Etch Pits on Ge Surfaces under Conditions of CVD Graphene Growth. Electrochemical Society Transactions, 2019, 93 (1), pp.91-92. ⟨10.1149/09301.0091ecst⟩. ⟨hal-02453650⟩
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