Article Dans Une Revue
Plasma Processes and Polymers
Année : 2009
Cédric NOEL : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02447134
Soumis le : mardi 21 janvier 2020-13:56:48
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Citer
Cédric Noël, David Duday, Stéphane Verdier, Patrick Choquet, Thierry Belmonte, et al.. Interaction of Stearic Acid Deposited on Silicon Samples With Ar/N 2 and Ar/O 2 Atmospheric Pressure Microwave Post-discharges. Plasma Processes and Polymers, 2009, 6 (S1), pp.S187-S192. ⟨10.1002/ppap.200930506⟩. ⟨hal-02447134⟩
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