High Temperature Thermal Conductivity of Amorphous Al 2 O 3 Thin Films Grown by Low Temperature ALD - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Advanced Engineering Materials Année : 2013

High Temperature Thermal Conductivity of Amorphous Al 2 O 3 Thin Films Grown by Low Temperature ALD

Domaines

Thermique [physics.class-ph]

Vincent Schick  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02441613

Soumis le : mercredi 15 janvier 2020-23:07:14

Dernière modification le : jeudi 27 juin 2024-03:13:25

Consulter sur la plateforme ISTEX

Dates et versions

hal-02441613 , version 1 (15-01-2020)

Identifiants

Citer

Andrea Cappella, Jean-Luc Battaglia, Vincent Schick, Andrzej Kusiak, Alessio Lamperti, et al.. High Temperature Thermal Conductivity of Amorphous Al 2 O 3 Thin Films Grown by Low Temperature ALD. Advanced Engineering Materials, 2013, 15 (11), pp.1046-1050. ⟨10.1002/adem.201300132⟩. ⟨hal-02441613⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS TREFLE UNIV-BORDEAUX UNIV-LORRAINE LEMTA-UL LNE I2M-BX INRAE HESAM IRENAV LAMPA LCPI LABOMAP LISPEN MSMP EMPP-UL
39 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

More