Mechanisms of Silicide Formation by Reactive Diffusion in Thin Films - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Diffusion foundations Année : 2019

Mechanisms of Silicide Formation by Reactive Diffusion in Thin Films

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Soumis le : lundi 14 décembre 2020-18:58:14

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hal-02403179 , version 1 (14-12-2020)

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Dominique Mangelinck. Mechanisms of Silicide Formation by Reactive Diffusion in Thin Films. Diffusion foundations, 2019, 21, pp.1-28. ⟨10.4028/www.scientific.net/DF.21.1⟩. ⟨hal-02403179⟩

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