Structural and electrical properties of AlN thin films on GaN substrates grown by plasma enhanced-Atomic Layer Deposition - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Materials Science in Semiconductor Processing Année : 2019

Structural and electrical properties of AlN thin films on GaN substrates grown by plasma enhanced-Atomic Layer Deposition

Emanuela Schilirò
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Filippo Giannazzo
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Corrado Bongiorno
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Istituto per la Microelettronica e Microsistemi [Catania]
Salvatore Di Franco
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Giuseppe Greco
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Istituto per la Microelettronica e Microsistemi [Catania]
Fabrizio Roccaforte
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Pawel Prystawko
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Institute of High Pressure Physics [Warsaw]
Piotr Kruszewski
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Mike Leszczyński
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Marcin Krysko
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Adrien Michon
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications
Yvon Cordier
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications
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Bela Pécz
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Hassan Gargouri
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Emanuela Schilirò, Filippo Giannazzo, Corrado Bongiorno, Salvatore Di Franco, Giuseppe Greco, et al.. Structural and electrical properties of AlN thin films on GaN substrates grown by plasma enhanced-Atomic Layer Deposition. Materials Science in Semiconductor Processing, 2019, 97, pp.35-39. ⟨10.1016/j.mssp.2019.03.005⟩. ⟨hal-02399341⟩

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