Development of Highly Sensitive Niobium Nitride Resistive Thermal Probes for Nanoscale Thermal Microscopy
R. Swami
(1)
,
J. Paterson
(1)
,
D. Singhal
(1)
,
G. Julié
(2)
,
S. Le Denmat
(3)
,
J.-F. Motte
(2)
,
A. Alkurdi
(4)
,
J. Yin
(5)
,
J.F. Robillard
(5, 6)
,
P.-O. Chapuis
(4)
,
S. Gomes
(4)
,
Olivier Bourgeois
(1)
1
NEEL - TPS -
Thermodynamique et biophysique des petits systèmes
2 NEEL - Nanofab - Nanofabrication
3 NEEL - POM - Optique & Microscopies
4 CETHIL - Centre d'Energétique et de Thermique de Lyon
5 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
6 MICROELEC SI - IEMN - Microélectronique Silicium - IEMN
2 NEEL - Nanofab - Nanofabrication
3 NEEL - POM - Optique & Microscopies
4 CETHIL - Centre d'Energétique et de Thermique de Lyon
5 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
6 MICROELEC SI - IEMN - Microélectronique Silicium - IEMN
J.F. Robillard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 747199
- IdHAL : jean-francois-robillard
- ORCID : 0000-0002-7170-7535
- IdRef : 132947110
P.-O. Chapuis
- Fonction : Auteur
- PersonId : 171286
- IdHAL : pierre-olivier-chapuis
- ORCID : 0000-0002-6264-2530
- IdRef : 191202266
Olivier Bourgeois
- Fonction : Auteur
- PersonId : 1142888
- IdHAL : olivier-gabriel-bourgeois
- ORCID : 0000-0002-0465-7400