High temperature oxidation behavior of fully dense ZrB2/SiC and HfB2/SiC composites with various compositions in air plasma conditions - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

High temperature oxidation behavior of fully dense ZrB2/SiC and HfB2/SiC composites with various compositions in air plasma conditions

Domaines

Matériaux Plasmas Milieux fluides et réactifs

Marianne Balat-Pichelin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02358921

Soumis le : mardi 12 novembre 2019-11:27:09

Dernière modification le : vendredi 18 octobre 2024-13:44:03

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02358921 , version 1 (12-11-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02358921 , version 1

Citer

Cassandre Piriou, Olivier Rapaud, Ludovic Charpentier, Sylvie Foucaud, Marianne J.H. Balat-Pichelin. High temperature oxidation behavior of fully dense ZrB2/SiC and HfB2/SiC composites with various compositions in air plasma conditions. 47th IUPAC World Chemistry Congress “Frontiers in Chemistry: Let’s create our Future! 100 years with IUPAC”, Jul 2019, Paris, France. ⟨hal-02358921⟩

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