Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2018
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https://hal.science/hal-02349125
Soumis le : mardi 5 novembre 2019-15:24:45
Dernière modification le : vendredi 21 novembre 2025-14:50:02
Citer
Wanghua Chen, Jean-Luc Maurice, Jean-Charles Vanel, Pere Roca I Cabarrocas. Powder free PECVD epitaxial silicon by plasma pulsing or increasing the growth temperature. Journal of Physics D: Applied Physics, 2018, 51 (23), pp.235203. ⟨10.1088/1361-6463/aac1ea⟩. ⟨hal-02349125⟩
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