A user-friendly guide to the optimum ultraviolet photolithographic exposure and greyscale dose of SU-8 photoresist on common MEMS, microsystems, and microelectronics coatings and materials - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Analytical Methods Année : 2017

A user-friendly guide to the optimum ultraviolet photolithographic exposure and greyscale dose of SU-8 photoresist on common MEMS, microsystems, and microelectronics coatings and materials

Matthieu Gaudet
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1440437
  • IdRef : 113052014
S. Arscott
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Nano and Microsystems - IEMN
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Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

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Citer

Matthieu Gaudet, S. Arscott. A user-friendly guide to the optimum ultraviolet photolithographic exposure and greyscale dose of SU-8 photoresist on common MEMS, microsystems, and microelectronics coatings and materials. Analytical Methods, 2017, 9 (17), pp.2495-2504. ⟨10.1039/C7AY00564D⟩. ⟨hal-02345405⟩

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