Challenges of contact etching for 14FDSOI technology
Mokrane Mebarki
(1, 2, 3)
,
Maxime Darnon
(4, 5, 1)
,
Cecile Jenny
(3)
,
Nicolas Posseme
(2)
,
Delia Ristoiu
(3)
,
Claire Richard
(3)
,
Olivier Joubert
(1)
1
LTM -
Laboratoire des technologies de la microélectronique
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
4 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
5 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
4 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
5 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
Claire Richard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 738470
- IdHAL : claire-richard
- ORCID : 0000-0001-6520-5494
- IdRef : 139511369