Chapitre D'ouvrage
Année : 2017
Maxime Darnon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02338425
Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-02:00:27
Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02338425 , version 1
- DOI : 10.1016/B978-1-78548-096-6.50003-1
Citer
Sebastien Barnola, Nicolas Posseme, Stefan Landis, Maxime Darnon. Patterning Challenges in Microelectronics. Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization, Elsevier, pp.59-94, 2017, ⟨10.1016/B978-1-78548-096-6.50003-1⟩. ⟨hal-02338425⟩
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