Interaction of humidity with plasma-damaged porous low-k - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Interaction of humidity with plasma-damaged porous low-k

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique Sciences de l'ingénieur [physics]

Maxime Darnon  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02338098

Soumis le : mardi 29 octobre 2019-18:48:22

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

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Dates et versions

hal-02338098 , version 1 (29-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338098 , version 1

Citer

Maxime Darnon, Névine Rochat, Christophe Licitra, Thierry Chevolleau, Romain Hurand. Interaction of humidity with plasma-damaged porous low-k. 28th Advanced Metallization Conference (ADMETA), Oct 2018, Beijing, China. ⟨hal-02338098⟩

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