Complete data preparation flow for Massively Parallel E-Beam lithography on 28nm node full-field design - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Complete data preparation flow for Massively Parallel E-Beam lithography on 28nm node full-field design

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Patrick Schiavone  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02332442

Soumis le : jeudi 24 octobre 2019-17:46:32

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02332442 , version 1 (24-10-2019)

Identifiants

Citer

Aurélien Fay, Clyde Browning, Pieter Brandt, Jacky Chartoire, Sébastien Bérard-Bergery, et al.. Complete data preparation flow for Massively Parallel E-Beam lithography on 28nm node full-field design. SPIE Advanced Lithography, 2016, San Jose, United States. pp.977714, ⟨10.1117/12.2219178⟩. ⟨hal-02332442⟩

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