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Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Photo-Atomic-Layer-Etching: an innovative tool for nanostructuring of quantum semiconductor microstructures

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02330048 , version 1 (23-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02330048 , version 1

Citer

J.J. Dubowski. Photo-Atomic-Layer-Etching: an innovative tool for nanostructuring of quantum semiconductor microstructures. EuroSciCon Conference on Smart Materials, Oct 2018, Amsterdam, Netherlands. ⟨hal-02330048⟩
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