Variable shaped beam lithography capabilities enhancement by "small-shots" correction - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2018
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02326592 , version 1 (22-10-2019)

Identifiants

Citer

Aurélien Fay, Alexis Girodon, Jacky Chartoire, Jérôme Hazart, Sébastien Bayle, et al.. Variable shaped beam lithography capabilities enhancement by "small-shots" correction. Photomask Technology, Sep 2018, Monterey, United States. pp.108101D, ⟨10.1117/12.2501823⟩. ⟨hal-02326592⟩
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