Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
UMI3463 LN2 : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02320611
Soumis le : vendredi 18 octobre 2019-21:46:39
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:48:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02320611 , version 1
Citer
S. Ecoffey, D. Drouin. Nanoscale damasceneprocesses for patterning and devices fabrication. SPIE Advanced Lithography, Feb 2017, San Jose, United States. ⟨hal-02320611⟩
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