Poster De Conférence
Année : 2019
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02311314
Soumis le : jeudi 10 octobre 2019-18:01:52
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02311314 , version 1
Citer
Gaëlle Antoun, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Kumiko Yamazaki, et al.. Analysis of mechanisms involved in cryogenic ALE. 19th International Conference on Atomic Layer Deposition - 6th International Atomic Layer Etching Workshop, Jul 2019, Seattle, France. ⟨hal-02311314⟩
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