Communication Dans Un Congrès
Année : 2018
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https://hal.science/hal-02311275
Soumis le : jeudi 10 octobre 2019-17:25:50
Dernière modification le : samedi 24 janvier 2026-15:16:17
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02311275 , version 1
Citer
Romain Chanson, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Liping Zhang, et al.. Low-k material cryoetch using high boiling point organic compounds to reduce plasma induced damage. 40th International Symposium on Dry Process, Nov 2018, Nagoya, France. ⟨hal-02311275⟩
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