Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Ar/Cl2/CH4 Plasma Chemistry
Jean-Pierre Landesman
(1)
,
Marc Fouchier
(2)
,
Erwine Pargon
(2)
,
Névine Rochat
(3)
,
Daniel T Cassidy
(4)
,
Christophe Levallois
(5)
,
Merwan Mokhtari
(1)
,
Laurène Youssef
(3)
,
Juan Jiménez
(6)
,
Alfredo Torres
(6)
1
IPR -
Institut de Physique de Rennes
2 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
3 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
4 McMaster University [Hamilton, Ontario]
5 FOTON - Institut des Fonctions Optiques pour les Technologies de l'informatiON
6 UVa - Universidad de Valladolid [Valladolid]
2 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
3 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
4 McMaster University [Hamilton, Ontario]
5 FOTON - Institut des Fonctions Optiques pour les Technologies de l'informatiON
6 UVa - Universidad de Valladolid [Valladolid]
Jean-Pierre Landesman
- Fonction : Auteur
- PersonId : 2987
- IdHAL : jp-landesman
- ORCID : 0000-0003-3330-7407
- IdRef : 083767746
Erwine Pargon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180469
- IdHAL : erwine-pargon
- ORCID : 0000-0002-6337-9180
Christophe Levallois
- Fonction : Auteur
- PersonId : 3426
- IdHAL : christophe-levallois
- ORCID : 0000-0001-5832-0769
- IdRef : 120180545
Merwan Mokhtari
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17777
- IdHAL : merwan-mokhtari
- ORCID : 0000-0003-1327-0088