Morphology and arrangement of InN nanocolumns deposited by radio-frequency sputtering: Effect of the buffer layer - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Crystal Growth Année : 2016

Morphology and arrangement of InN nanocolumns deposited by radio-frequency sputtering: Effect of the buffer layer

L. Monteagudo-Lerma
  • Fonction : Auteur
A. Núñez-Cascajero
  • Fonction : Auteur
A. Ruiz
  • Fonction : Auteur
E. Monroy
F.B. Naranjo
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-02166018 , version 1 (26-06-2019)

Identifiants

Citer

L. Monteagudo-Lerma, S. Valdueza-Felip, A. Núñez-Cascajero, A. Ruiz, M. Gonzalez-Herraez, et al.. Morphology and arrangement of InN nanocolumns deposited by radio-frequency sputtering: Effect of the buffer layer. Journal of Crystal Growth, 2016, 434, pp.13-18. ⟨10.1016/j.jcrysgro.2015.10.016⟩. ⟨hal-02166018⟩
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