Technological developments of epitaxial lift-off process over InP substrates
F. Chancerel
(1, 2, 3)
,
P. Regreny
(1)
,
J.L. Leclercq
(4)
,
A. Jaouad
(2, 3)
,
M. Darnon
(5, 2)
,
S. Fafard
(2, 3)
,
M. Gendry
(1)
,
Vincent Aimez
(2, 3)
P. Regreny
- Fonction : Auteur
- PersonId : 170337
- IdHAL : philippe-regreny
- ORCID : 0000-0003-2410-9425
- IdRef : 112700233
J.L. Leclercq
- Fonction : Auteur
- PersonId : 20758
- IdHAL : jean-louis-leclercq
- ORCID : 0000-0002-3497-7229
- IdRef : 166784796
M. Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
M. Gendry
- Fonction : Auteur
- PersonId : 21701
- IdHAL : michel-gendry
- ORCID : 0000-0003-4237-6164
- IdRef : 032524269
Vincent Aimez
- Fonction : Auteur
- PersonId : 182750
- IdHAL : vaimez
- ORCID : 0000-0002-1594-3242
- IdRef : 144755300