Caractérisation de couches d’Al2O3 déposées par ALD thermique pour des applications photovoltaïques - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2016

Caractérisation de couches d’Al2O3 déposées par ALD thermique pour des applications photovoltaïques

Alain Fave
Bruno Canut
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 748407
  • IdHAL : bruno-canut
Claude Botella
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 918205
Grenet Geneviève
Mustapha Lemiti
Danièle Blanc
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02066922 , version 1 (13-03-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02066922 , version 1

Citer

Corina Barbos, Alain Fave, Bruno Canut, Philippe Regreny, Claude Botella, et al.. Caractérisation de couches d’Al2O3 déposées par ALD thermique pour des applications photovoltaïques. JNPV, Nov 2016, Dourdan, France. ⟨hal-02066922⟩
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