Communication Dans Un Congrès
Année : 2018
Frédérique Ducroquet : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02051931
Soumis le : jeudi 28 février 2019-10:48:51
Dernière modification le : mercredi 15 mai 2024-13:42:16
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02051931 , version 1
Citer
Krishna Pradeep, Theano Karatsori, Thierry Poiroux, Andre Juge, Patrick Scheer, et al.. Analysis and modelling of wafer level process variability in advanced FD-SOI devices using split C-V and gate current data. Modeling of Systems and Parameter Extraction Working (MOS-AK), ESSDERC/ESSCIRC, Sep 2018, Dresden, Germany. ⟨hal-02051931⟩
18
Consultations
0
Téléchargements