Impact of silica-substrate chemistry on tantalum nitride thin films deposited by atomic layer deposition: Microstructure, chemistry and electrical behaviors - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2019

Impact of silica-substrate chemistry on tantalum nitride thin films deposited by atomic layer deposition: Microstructure, chemistry and electrical behaviors

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Chimie Matériaux

Elisabeth BLANQUET  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02050223

Soumis le : mercredi 27 février 2019-08:43:20

Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-18:18:31

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Dates et versions

hal-02050223 , version 1 (27-02-2019)

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Citer

Fabien Volpi, Lionel Cadix, Gregory Berthomé, Stéphane Coindeau, Thierry Encinas, et al.. Impact of silica-substrate chemistry on tantalum nitride thin films deposited by atomic layer deposition: Microstructure, chemistry and electrical behaviors. Thin Solid Films, 2019, 669, pp.392-398. ⟨10.1016/j.tsf.2018.10.006⟩. ⟨hal-02050223⟩

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