Article Dans Une Revue
Defect and Diffusion Forum
Année : 2015
Christophe Girardeaux : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://amu.hal.science/hal-02044836
Soumis le : jeudi 21 février 2019-16:34:53
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-08:40:24
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02044836 , version 1
- DOI : 10.4028/www.scientific.net/DDF.363.56
Citer
Alain Portavoce, Omar Abbes, Sylvain Bertaina, Yauheni Rudzevich, Lee Chow, et al.. Mn Diffusion and Reactive Diffusion in Ge: Spintronic Applications. Defect and Diffusion Forum, 2015, 363, pp.56-61. ⟨10.4028/www.scientific.net/DDF.363.56⟩. ⟨hal-02044836⟩
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