Development of Niobium Nitride based Highly Sensitive Resistive Probes for Nanoscale Scanning Thermal Microscopy - Archive ouverte HAL
Poster De Conférence Année : 2018

Development of Niobium Nitride based Highly Sensitive Resistive Probes for Nanoscale Scanning Thermal Microscopy

Domaines

Thermique [physics.class-ph]

Pierre-Olivier Chapuis  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02025433

Soumis le : mardi 19 février 2019-16:30:22

Dernière modification le : lundi 16 décembre 2024-15:36:46

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02025433 , version 1 (19-02-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02025433 , version 1

Citer

Rahul Swami, Gwénäelle Julié, Simon Ledenmat, Jean-François Motte, Ali Alkurdi, et al.. Development of Niobium Nitride based Highly Sensitive Resistive Probes for Nanoscale Scanning Thermal Microscopy. Eurotherm 111: Nanoscale and Microscale Heat Transfer VI, Dec 2018, Levi, Finland. ⟨hal-02025433⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UGA CNRS UNIV-LYON1 INSA-LYON NEEL CETHIL INSA-GROUPE UDL
133 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More