Inductively coupled plasma etching of germanium tin for the fabrication of photonic components - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Inductively coupled plasma etching of germanium tin for the fabrication of photonic components

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Optique / photonique Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Samuel Tardif  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02016468

Soumis le : mardi 12 février 2019-16:47:35

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hal-02016468 , version 1 (12-02-2019)

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Citer

L. Milord, J. Aubin, A. Gassenq, S. Tardif, K. Guilloy, et al.. Inductively coupled plasma etching of germanium tin for the fabrication of photonic components. SPIE OPTO 2017, Jan 2017, San Francisco, United States. pp.101080C, ⟨10.1117/12.2252280⟩. ⟨hal-02016468⟩

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