Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2006
Magali Putero : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01951272
Soumis le : mardi 11 décembre 2018-12:27:39
Dernière modification le : lundi 10 juin 2024-16:58:03
Citer
L. Ehouarne, Magali Putero, Dominique Mangelinck, F. Nemouchi, T. Bigault, et al.. In situ study of the growth kinetics and interfacial roughness during the first stages of nickel-silicide formation. Microelectronic Engineering, 2006, 83 (11-12), pp.2253-2257. ⟨10.1016/j.mee.2006.10.014⟩. ⟨hal-01951272⟩
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