Dopant effect on NiGe texture during nickel germanide growth
F. Nemouchi
(1)
,
V. Carron
,
J. L. Lábár
,
Magali Putero
(2)
,
L. Ehouarne
,
B. Arrazat
,
Y. Morand
(3)
,
S. Descombes
(4)
,
J. P. Barnes
,
Dominique Mangelinck
(2)
,
Y. Campidelli
(3)
,
O. Kermarrec
(3)
1
CEA-LETI -
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
2 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
3 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
4 JAD - Laboratoire Jean Alexandre Dieudonné
2 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
3 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
4 JAD - Laboratoire Jean Alexandre Dieudonné
V. Carron
- Fonction : Auteur
J. L. Lábár
- Fonction : Auteur
Magali Putero
- Fonction : Auteur
- PersonId : 170674
- IdHAL : magali-putero
- ORCID : 0000-0001-6527-4334
- IdRef : 231973950
L. Ehouarne
- Fonction : Auteur
B. Arrazat
- Fonction : Auteur
J. P. Barnes
- Fonction : Auteur
Dominique Mangelinck
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17430
- IdHAL : dominique-mangelinck
- ORCID : 0000-0002-3429-1948
- IdRef : 086297600