Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2009
Guillaume Saint-Girons : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01939932
Soumis le : jeudi 29 novembre 2018-20:04:25
Dernière modification le : mercredi 12 avril 2023-09:49:27
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01939932 , version 1
Citer
S. Pelloquin, L. Becerra, Guillaume Saint-Girons, C. Plossu, N. Baboux, et al.. Molecular beam deposition of LaAlO3 on silicon for sub-22nm CMOS technological nodes: Towards a perfect control of the oxide/silicon heterointerface. Microelectronic Engineering, 2009, 86 (7-9), pp.1686-1688. ⟨hal-01939932⟩
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