Ultralow equivalent oxide thickness obtained for thin amorphous LaAlO3 layers grown on Si(001) - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2007
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Dates et versions

hal-01939919 , version 1 (29-11-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01939919 , version 1

Citer

L. Becerra, C. Merckling, N. Baboux, C. Plossu, O. Marty, et al.. Ultralow equivalent oxide thickness obtained for thin amorphous LaAlO3 layers grown on Si(001). Applied Physics Letters, 2007, 91 (19), pp.192909. ⟨hal-01939919⟩
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