Scaling Requires Continuous Innovation in Thermal Processing: Low-Temperature Plasma Oxidation - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue ECS Transactions Année : 2012

Scaling Requires Continuous Innovation in Thermal Processing: Low-Temperature Plasma Oxidation

W. Lerch
  • Fonction : Auteur
W. Kegel
  • Fonction : Auteur
J. Niess
  • Fonction : Auteur
A. Gschwandtner
  • Fonction : Auteur
J. Gelpey
  • Fonction : Auteur
Fuccio Cristiano
Équipe Matériaux et Procédés pour la Nanoélectronique
CV

Domaines

Physique [physics] Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux Micro et nanotechnologies/Microélectronique

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https://hal.science/hal-01922632

Soumis le : lundi 26 novembre 2018-00:20:51

Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:22

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hal-01922632 , version 1 (26-11-2018)

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Citer

W. Lerch, W. Kegel, J. Niess, A. Gschwandtner, J. Gelpey, et al.. Scaling Requires Continuous Innovation in Thermal Processing: Low-Temperature Plasma Oxidation. ECS Transactions, 2012, 45 (6), pp.151 - 161. ⟨10.1149/1.3700948⟩. ⟨hal-01922632⟩

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