Scaling Requires Continuous Innovation in Thermal Processing: Low-Temperature Plasma Oxidation - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue ECS Transactions Année : 2012

Scaling Requires Continuous Innovation in Thermal Processing: Low-Temperature Plasma Oxidation

W. Lerch
  • Fonction : Auteur
W. Kegel
  • Fonction : Auteur
J. Niess
  • Fonction : Auteur
A. Gschwandtner
  • Fonction : Auteur
J. Gelpey
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01922632 , version 1 (26-11-2018)

Identifiants

Citer

W. Lerch, W. Kegel, J. Niess, A. Gschwandtner, J. Gelpey, et al.. Scaling Requires Continuous Innovation in Thermal Processing: Low-Temperature Plasma Oxidation. ECS Transactions, 2012, 45 (6), pp.151 - 161. ⟨10.1149/1.3700948⟩. ⟨hal-01922632⟩
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