Deep germanium etching using time multiplexed plasma etching - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2015

Deep germanium etching using time multiplexed plasma etching

Mots clés

plasma etching germanium

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Maxime Darnon  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01916768

Soumis le : jeudi 8 novembre 2018-17:24:05

Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:48:07

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Dates et versions

hal-01916768 , version 1 (08-11-2018)

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Citer

Maxime Darnon, Mathieu de Lafontaine, Maité Volatier, Simon Fafard, Richard A Arès, et al.. Deep germanium etching using time multiplexed plasma etching. Journal of Vacuum Science and Technology, 2015, 33, pp.060605. ⟨10.1116/1.4936112⟩. ⟨hal-01916768⟩

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