Poster De Conférence
Année : 2018
Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01912178
Soumis le : lundi 5 novembre 2018-11:13:34
Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:28:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01912178 , version 1
Citer
Amaël Caillard, Robin Graillot-Vuillecot, Christophe Cachoncinlle, Eric Millon, Thomas Lecas, et al.. Sputtering and evaporation mechanisms in magnetron process using a hot target,. Plasma Surface Engineering, Sep 2018, Garmisch-Partenkirchen, Germany. ⟨hal-01912178⟩
Collections
88
Consultations
0
Téléchargements