Poster De Conférence Année : 2018

Sputtering and evaporation mechanisms in magnetron process using a hot target,

Domaines

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01912178 , version 1 (05-11-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01912178 , version 1

Citer

Amaël Caillard, Robin Graillot-Vuillecot, Christophe Cachoncinlle, Eric Millon, Thomas Lecas, et al.. Sputtering and evaporation mechanisms in magnetron process using a hot target,. Plasma Surface Engineering, Sep 2018, Garmisch-Partenkirchen, Germany. ⟨hal-01912178⟩
88 Consultations
0 Téléchargements

Partager

  • More