Tin dioxide nanoparticles as catalyst precursors for plasma-assisted vapor–liquid–solid growth of silicon nanowires with well-controlled density
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Article Dans Une Revue
Nanotechnology
Année : 2018
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https://hal.science/hal-01908717
Soumis le : mercredi 11 mars 2020-14:21:40
Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-18:16:33
Archivage à long terme le : vendredi 12 juin 2020-15:50:27
Citer
Letian Dai, Isabelle Maurin, Martin Foldyna, José Alvarez, Weixi Wang, et al.. Tin dioxide nanoparticles as catalyst precursors for plasma-assisted vapor–liquid–solid growth of silicon nanowires with well-controlled density. Nanotechnology, 2018, 29 (43), ⟨10.1088/1361-6528/aad7db⟩. ⟨hal-01908717⟩
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