Innovative Guided Mode Method for measuring the Penetration Depth in partially exposed Photoresist Layers - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Current Developments in Lens Design and Optical Engineering Xiii Année : 2012

Innovative Guided Mode Method for measuring the Penetration Depth in partially exposed Photoresist Layers

Thomas Wood
Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
Vincent Brissonneau
  • Fonction : Auteur
Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
Jean-Baptiste Brueckner
  • Fonction : Auteur
Gerard Berginc
  • Fonction : Auteur
Thales Research and Technology [Palaiseau]
François Flory
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 949097
OPTO-PV
Judikaël Le Rouzo
Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
CV
Ludovic Escoubas
OptoPV
Rb Johnson
  • Fonction : Auteur
Vn Mahajan
  • Fonction : Auteur
S Thibault
  • Fonction : Auteur

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique Optique / photonique

Judikaël Le Rouzo  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01810804

Soumis le : vendredi 8 juin 2018-11:18:08

Dernière modification le : lundi 10 juin 2024-16:58:03

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01810804 , version 1 (08-06-2018)

Identifiants

Citer

Thomas Wood, Vincent Brissonneau, Jean-Baptiste Brueckner, Gerard Berginc, François Flory, et al.. Innovative Guided Mode Method for measuring the Penetration Depth in partially exposed Photoresist Layers. Current Developments in Lens Design and Optical Engineering Xiii, 2012, 8486, ⟨10.1117/12.928692⟩. ⟨hal-01810804⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UNIV-TLN CNRS UNIV-AMU IM2NP LUMEN-PV
72 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

More