Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2018

Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition

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Elisabeth BLANQUET  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01809316

Soumis le : mercredi 6 juin 2018-15:58:53

Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-18:17:05

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Dates et versions

hal-01809316 , version 1 (06-06-2018)

Identifiants

Citer

L. Tian, S. Ponton, M. Benz, A. Crisci, R. Reboud, et al.. Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition. Surface and Coatings Technology, 2018, 347, pp.181 - 190. ⟨10.1016/j.surfcoat.2018.04.031⟩. ⟨hal-01809316⟩

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