Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Self-assembly of Si-containing block copolymers with high-segregation strength: toward sub-10nm features in directed self-assembly

Douglas Resnick
  • Fonction : Auteur
Christopher Bencher
  • Fonction : Auteur
C. Reboul
  • Fonction : Auteur
G. Fleury
K. Aissou
  • Fonction : Auteur
C. Brochon
E. Cloutet
  • Fonction : Auteur
C. Nicolet
  • Fonction : Auteur
X. Chevalier
  • Fonction : Auteur
C. Navarro
  • Fonction : Auteur
G. Hadziioannou
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01798612 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

Citer

Douglas Resnick, Christopher Bencher, C. Reboul, G. Fleury, K. Aissou, et al.. Self-assembly of Si-containing block copolymers with high-segregation strength: toward sub-10nm features in directed self-assembly. SPIE Advanced Lithography, Feb 2014, San Jose, France. ⟨10.1117/12.2046099⟩. ⟨hal-01798612⟩
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