Communication Dans Un Congrès Année : 2014
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01798525 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01798525 , version 1

Citer

P. Bézard, G. Cunge, E. Latu-Romain, O. Joubert, R. Tiron, et al.. Plasma etching of sub-14nm holes in silicon using PS-b-PMMA block-copolymer masks.. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 6th International Workshop, May 2014, grenoble, France. ⟨hal-01798525⟩
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