Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
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https://hal.science/hal-01798525
Soumis le : mercredi 23 mai 2018-15:35:39
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-19:03:25
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01798525 , version 1
Citer
P. Bézard, G. Cunge, E. Latu-Romain, O. Joubert, R. Tiron, et al.. Plasma etching of sub-14nm holes in silicon using PS-b-PMMA block-copolymer masks.. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 6th International Workshop, May 2014, grenoble, France. ⟨hal-01798525⟩
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