Advanced OPC Mask-3D and Resist-3D modelling - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Advanced OPC Mask-3D and Resist-3D modelling

A. Szücs
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
J. Planchot
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
V. Farys
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
E. Yesilada
  • Fonction : Auteur
L. Depre
  • Fonction : Auteur
S. Kapasi
  • Fonction : Auteur
C. Gourgon
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
M. Besacier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
O. Mouraille
  • Fonction : Auteur
F. Driessen
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.science/hal-01798512

Soumis le : mercredi 23 mai 2018-15:24:43

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:22

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Dates et versions

hal-01798512 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01798512 , version 1

Citer

A. Szücs, J. Planchot, V. Farys, E. Yesilada, L. Depre, et al.. Advanced OPC Mask-3D and Resist-3D modelling . Advanced Lithography, SPIE , 2014, San Jose United States. ⟨hal-01798512⟩

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