Dry Etching of High [Al] AlGaAsSb Compounds Using Cl2/N2/Ar ICP RIE
B. Adelin
,
Q. Gaimard
(1)
,
A. Larrue
(2)
,
A. Lecestre
,
P. Dubreuil
,
Y. Rouillard
(3, 4)
,
G. Boissier
(3, 4)
,
A. Vicet
(3, 4)
,
Antoine Monmayrant
,
Olivier Gauthier-Lafaye
(3)
B. Adelin
- Fonction : Auteur
A. Lecestre
- Fonction : Auteur
- PersonId : 753470
- IdHAL : aurelie-lecestre
- ORCID : 0000-0003-2251-1226
P. Dubreuil
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Y. Rouillard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18594
- IdHAL : yves-rouillard
- ORCID : 0000-0003-4380-1839
- IdRef : 072310944
A. Vicet
- Fonction : Auteur
- PersonId : 19337
- IdHAL : aurore-vicet
- ORCID : 0000-0002-5709-3151
- IdRef : 112636713
Antoine Monmayrant
- Fonction : Auteur
- PersonId : 169788
- IdHAL : antoine-monmayrant
- ORCID : 0000-0002-6325-4644
- IdRef : 095141774
Olivier Gauthier-Lafaye
- Fonction : Auteur
- PersonId : 14157
- IdHAL : olivier-gauthier-lafaye
- ORCID : 0000-0003-2705-8811
- IdRef : 122645766