Deep etching high aspect ratio in GaInAsSb/AlGaAsSb sector by ICP-RIE plasma B
B. Adelin
,
A. Larrue
(1)
,
Olivier Gauthier-Lafaye
,
Antoine Monmayrant
,
A. Lecestre
,
P. Dubreuil
,
Y. Rouillard
(2, 3)
,
G. Boissier
(2, 3)
,
A. Vicet
(2, 3)
B. Adelin
- Fonction : Auteur
Olivier Gauthier-Lafaye
- Fonction : Auteur
- PersonId : 14157
- IdHAL : olivier-gauthier-lafaye
- ORCID : 0000-0003-2705-8811
- IdRef : 122645766
Antoine Monmayrant
- Fonction : Auteur
- PersonId : 169788
- IdHAL : antoine-monmayrant
- ORCID : 0000-0002-6325-4644
- IdRef : 095141774
A. Lecestre
- Fonction : Auteur
- PersonId : 753470
- IdHAL : aurelie-lecestre
- ORCID : 0000-0003-2251-1226
P. Dubreuil
- Fonction : Auteur
Y. Rouillard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18594
- IdHAL : yves-rouillard
- ORCID : 0000-0003-4380-1839
- IdRef : 072310944
A. Vicet
- Fonction : Auteur
- PersonId : 19337
- IdHAL : aurore-vicet
- ORCID : 0000-0002-5709-3151
- IdRef : 112636713