Directed self-assembly of PS-b-PDMS into 193nm photoresist patterns and transfer into silicon by plasma etching - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Directed self-assembly of PS-b-PDMS into 193nm photoresist patterns and transfer into silicon by plasma etching

Gottlieb Oehrlein
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Qinghuang Lin
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Ying Zhang
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 990827
State Key Laboratory of Alternate Electrical Power System with Renewable Energy Sources [Beijing]
Sophie Archambault
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Cécile Girardot
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 863036
Mathieu Salaün
Optique et Matériaux
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
Michael Delalande
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 859144
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Sophie Böhme
  • Fonction : Auteur
Gilles Cunge
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 849083
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Erwine Pargon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Olivier Joubert
Marc Zelsmann

Domaines

Physique [physics]

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Soumis le : mercredi 23 mai 2018-09:49:33

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:53:51

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Dates et versions

hal-01797999 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

Citer

Gottlieb Oehrlein, Qinghuang Lin, Ying Zhang, Sophie Archambault, Cécile Girardot, et al.. Directed self-assembly of PS-b-PDMS into 193nm photoresist patterns and transfer into silicon by plasma etching. SPIE Advanced Lithography, 2014, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2047287⟩. ⟨hal-01797999⟩

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