Etching Optimization of Post Aluminum-Silicon Thermomigration Process Residues - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2016
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Dates et versions

hal-01784760 , version 1 (03-05-2018)

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Citer

Bin Lu, Gaël Gautier, Damien Valente, Benjamin Morillon, Daniel Alquier. Etching Optimization of Post Aluminum-Silicon Thermomigration Process Residues. Microelectronic Engineering, 2016, 149, pp.97-105. ⟨10.1016/j.mee.2015.10.004⟩. ⟨hal-01784760⟩
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