Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2016
Christophe THIBAULT : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01784760
Soumis le : jeudi 3 mai 2018-17:15:24
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:07
Citer
Bin Lu, Gaël Gautier, Damien Valente, Benjamin Morillon, Daniel Alquier. Etching Optimization of Post Aluminum-Silicon Thermomigration Process Residues. Microelectronic Engineering, 2016, 149, pp.97-105. ⟨10.1016/j.mee.2015.10.004⟩. ⟨hal-01784760⟩
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