电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建 - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Yunan Normal University (Natural Sciences Edition) Année : 2015

Research Application and Platform Establishment of Electrochemical Atomic Layer Deposition

电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建

Résumé

近年来%电化学原子层沉积!^J4*<8>*:4U2*)J)<>U2*J)K48?4]>;2<2>=%^.D(V"技术在制 备催化’光电及热电等功能薄膜的研究和应用方面取得了较大进展G概述了 ^.D(V的发展历史’沉积原 理’研究及应用情况%介绍了课题组研发的 ^.D(V系统的构成和生长过程的控制机理G 关键词! 电化学原子层沉积&电化学原子层外延&功能薄膜&沉积系统
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Dates et versions

hal-01766827 , version 1 (16-04-2019)

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Citer

Li-Shi Wang, Guo-Qing Zhang, M. C. Record, Zhi-Xiang Bu, Li Sun. 电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建. Journal of Yunan Normal University (Natural Sciences Edition), 2015, 35 (1), pp.35-40. ⟨10.7699/j.yunnu.ns-2015-007⟩. ⟨hal-01766827⟩
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