Reactive diffusion in W–Mo–Si thin films

A. Derafa; M.-C. Record; Dominique Mangelinck; R. Halimi; A. Bouabellou

doi:10.1007/s10973-010-1136-7

Article Dans Une Revue Journal of Thermal Analysis and Calorimetry Année : 2011

Reactive diffusion in W–Mo–Si thin films

, (1) , (1) , ,

1

A. Derafa

Fonction : Auteur

M.-C. Record

Fonction : Auteur
PersonId : 18187
IdHAL : marie-christine-record
ORCID : 0000-0002-6637-6874
IdRef : 060561408

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

Dominique Mangelinck

Fonction : Auteur
PersonId : 17430
IdHAL : dominique-mangelinck
ORCID : 0000-0002-3429-1948
IdRef : 086297600

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

R. Halimi

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A. Bouabellou

Fonction : Auteur

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Matériaux

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https://hal.science/hal-01756411

Soumis le : lundi 2 avril 2018-09:31:07

Dernière modification le : lundi 10 juin 2024-16:58:03

Dates et versions

hal-01756411 , version 1 (02-04-2018)

Identifiants

HAL Id : hal-01756411 , version 1
DOI : 10.1007/s10973-010-1136-7

Citer

A. Derafa, M.-C. Record, Dominique Mangelinck, R. Halimi, A. Bouabellou. Reactive diffusion in W–Mo–Si thin films. Journal of Thermal Analysis and Calorimetry, 2011, 103 (1), pp.111 - 116. ⟨10.1007/s10973-010-1136-7⟩. ⟨hal-01756411⟩

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