ALD pour les cellules photovoltaïques - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Les Techniques de l'Ingenieur Année : 2016

Atomic layer deposition for photovoltaics

ALD pour les cellules photovoltaïques

Résumé

This article is dedicated to the applications of Atomic Layer Deposition (ALD) to the field of photovoltaics (PV). After a brief review of the PV conversion and its issues, the main industrial use of ALD to PV (passivation layers on 1 st generation crystalline silicon solar cells), as well as various examples of applications for the 2 nd and 3 rd solar cell generations are presented. They illustrate the various advantages (uniformity, conformity of ultra-thin layers, material engineering) and the limitations (deposition rate) of ALD for the development of efficient solar cells.
Dans cet article sont exposées les applications de la technique de dépôt de couches minces ALD (Atomic Layer Deposition) au domaine du photovoltaïque (PV). À l'issue d'un bref rappel sur la conversion PV et ses enjeux, la principale application industrielle de l'ALD au PV (couches de passivation pour les cellules solaires de 1 re génération en silicium cristallin) ainsi que différents exemples d'applications aux cellules de 2 e et 3 e générations sont présentés. Ils illustrent les différents atouts (uniformité, conformité de couches ultra-minces, ingénierie de matériaux) et limitations (vitesse de dépôt) de l'ALD pour le développement de cellules photovoltaïques performantes.

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Dates et versions

hal-01741546 , version 1 (23-03-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01741546 , version 1

Citer

Danièle Blanc-Pelissier, Nathanaelle Schneider. ALD pour les cellules photovoltaïques. Les Techniques de l'Ingenieur, 2016, Principes et applications de la technique ALD (Atomic Layer Deposition). ⟨hal-01741546⟩
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