Porous extreme low k (ELK) dielectrics using a PECVD porogen approach - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2004
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01741536 , version 1 (23-03-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01741536 , version 1

Citer

Laurent Favennec, Vincent Jousseaume, V. Rouessac, Florence Fusalba, Jean Durand, et al.. Porous extreme low k (ELK) dielectrics using a PECVD porogen approach. E-MRS 2004 Spring Meeting, May 2004, Strasbourg, France. ⟨hal-01741536⟩
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