Communication Dans Un Congrès
Année : 2018
Rémi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01735471
Soumis le : vendredi 16 mars 2018-05:14:17
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:06
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01735471 , version 1
Citer
Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Koichi Yatsuda, Kaoru Maekawa. Cryogenic processes for silicon deep etching, low-K materials and atomic layer etching . International Symposium on Advanced Plasma Science, Mar 2018, Nagoya, Japan. ⟨hal-01735471⟩
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