On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching
Philippe Basset
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18820
- IdHAL : philippe-basset
- ORCID : 0000-0002-9790-8247
- IdRef : 07452285X
Yamin Leprince-Wang
- Fonction : Auteur
- PersonId : 832546
Tarik Bourouina
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18824
- IdHAL : tarik-bourouina
- ORCID : 0000-0003-2342-7149
- IdRef : 110802160
Format du dépôt | Fichier |
---|---|
Type de dépôt | Article dans une revue |
Titre |
en
On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching
|
Auteur(s) |
K. N. Nguyen
1
, Philippe Basset
1
, F. Marty
2
, Yamin Leprince-Wang
, Tarik Bourouina
1
1
ESYCOM -
Electronique, Systèmes de communication et Microsystèmes
( 43154 )
- Université de Paris-Est - Marne-la-Vallée, Cité Descartes, Bâtiment Copernic, 5 bd Descartes, 77454 Marne-la-Vallée Cedex 2
- France
2
IEF -
Institut d'électronique fondamentale
( 1362 )
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- France
|
Langue du document |
Anglais
|
Nom de la revue |
|
Vulgarisation |
Non
|
Comité de lecture |
Oui
|
Audience |
Internationale
|
Date de publication |
2013-05-21
|
Volume |
113
|
Numéro |
19
|
Domaine(s) |
|
DOI | 10.1063/1.4805024 |
Origine :
Fichiers éditeurs autorisés sur une archive ouverte
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